• 關(guān)鍵詞：                                                                平板顯示器                                                                量子點(diǎn)技術(shù)

• 摘要：目前，這種材料已投入商業(yè)化生產(chǎn)，廣泛應(yīng)用于工業(yè)界包括平板顯示器 (FPD) 行業(yè)。 —在FPD應(yīng)用中，QD有望提高效能并降低功耗，增加亮度和色彩飽和度，延長顯示器使用壽命，并降低當(dāng)前FPD技術(shù)（包括有機(jī)發(fā)光二極管 (OLED) 技術(shù)）的成本。

早在1980年，科學(xué)家便已發(fā)現(xiàn)了膠體半導(dǎo)體納米晶體 — 即量子點(diǎn) (QD)，其直徑大小通常只有2 - 10納米 (nm)。

具有鮮艷色彩的量子點(diǎn)，從紫色到深紅色。圖片版權(quán)歸屬：Alexei Antipov / Wikimedia Commons / CC-BY-SA-3.0 / GFDL

目前，這種材料已投入商業(yè)化生產(chǎn)，廣泛應(yīng)用于工業(yè)界包括平板顯示器 (FPD) 行業(yè)。

—在FPD應(yīng)用中，QD有望提高效能并降低功耗，增加亮度和色彩飽和度，延長顯示器使用壽命，并降低當(dāng)前FPD技術(shù)（包括有機(jī)發(fā)光二極管 (OLED) 技術(shù)）的成本。

人們普遍認(rèn)為，QD設(shè)備的問世將會(huì)創(chuàng)造一種新的范式，這將終結(jié)液晶顯示器 (LCD) 的市場(chǎng)壟斷地位，并由開發(fā)出的新型低成本的薄膜晶體管 (TFT) 產(chǎn)品取而代之。QD對(duì)平板顯示器 (FPD) 行業(yè)將產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響，但一切真的會(huì)從此改變嗎？

—Touch Display Research是一家獨(dú)立的技術(shù)市場(chǎng)調(diào)研和咨詢公司，該公司預(yù)測(cè)量子點(diǎn)顯示器和照明組件的市場(chǎng)價(jià)值到2016年年底將≥20億美元，到2025年將達(dá)到106億美元。由于QD技術(shù)的一個(gè)關(guān)鍵優(yōu)勢(shì)是無需對(duì)現(xiàn)有的FPD制程作出重大改變，這有助于盡早將該技術(shù)投入實(shí)際應(yīng)用。市場(chǎng)因此預(yù)期, QD LED或量子點(diǎn)發(fā)光二極管 (QLED) 顯示器將成為繼OLED顯示器之后的下一代顯示技術(shù)。

QLED的結(jié)構(gòu)與OLED設(shè)備非常相似，它們均采用TFT矩陣有源處理每個(gè)像素。然而，使用模式化的QD取代標(biāo)準(zhǔn)發(fā)旋光性聚合物作為發(fā)射層，則具有顯著的優(yōu)勢(shì)。這些優(yōu)勢(shì)包括純色和完全可再現(xiàn)的色彩空間標(biāo)準(zhǔn)（如Adobe RGB），并能夠帶來比最先進(jìn)的OLED還要高出30 – 40%的發(fā)光效率。QD還可能促成各種尺寸及形狀的透明和超薄顯示器的出現(xiàn)，這是現(xiàn)有技術(shù)無法做到的。

運(yùn)動(dòng)控制和位置編碼器

封裝QLED制造工藝涉及精密的運(yùn)動(dòng)控制, 其制造工藝將圍繞兩項(xiàng)技術(shù)展開：電流體動(dòng)力噴墨打印 (e-jet) 技術(shù)和接觸印刷技術(shù)。

E-jet打印技術(shù)是通過電場(chǎng)將墨滴從打印頭噴嘴吸出，從而得到納米級(jí)尺寸的墨滴。

然而接觸印刷技術(shù)，即透過采用彈性壓印模進(jìn)行轉(zhuǎn)印，制造分辨率高達(dá)每英寸2460個(gè)紅-綠-藍(lán)像素點(diǎn) (PPI) 的顯示器。QD檢索和印刷過程取決于對(duì)印模施加的正交力和印模速度。印模與基板的接觸面的調(diào)準(zhǔn)和定位精度必須達(dá)到微米級(jí)，并且可重復(fù)覆蓋精度必須<500 nm，這些都是該技術(shù)要求達(dá)到的特性。在這種情況下，考慮到接觸印刷工藝在微米和納米級(jí)組件制造領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用前景，我們可以判斷，用于運(yùn)動(dòng)控制的精密增量式光柵系統(tǒng)的未來銷售狀況比較樂觀?，F(xiàn)有的高效自動(dòng)化轉(zhuǎn)印系統(tǒng)大多數(shù)包含X、Y和Z軸線性平臺(tái)，以及附加的移動(dòng)/傾斜平臺(tái)，它們共同控制印模組件的操作并確保重復(fù)精度。

領(lǐng)先的編碼器解決方案

用于當(dāng)前FPD制程的大型空氣軸承平臺(tái)，其典型運(yùn)動(dòng)誤差小于10微米或10角秒。顯然，需要對(duì)其性能做出改進(jìn)，方可滿足未來QD設(shè)備/納米制造技術(shù)對(duì)運(yùn)動(dòng)控制精度的需求。

增量式光柵—例如雷尼紹緊湊型TONiC?系列光柵—是用于需要最高精度的伺服反饋的最佳解決方案。設(shè)計(jì)人員在尋找最佳的伺服控制性能解決方案時(shí)，要求編碼器具備如下特點(diǎn)：帶有精細(xì)細(xì)分、周期誤差低、信號(hào)噪音（抖動(dòng)）小、封裝尺寸小，以及具有可選的模擬/數(shù)字輸出功能。雷尼紹的TONiC光柵具備低至±0.51 nmRMS的低信號(hào)抖動(dòng)，周期誤差僅±30 nm，是同類產(chǎn)品中最低的。顯然，先進(jìn)的光柵對(duì)未來納米制造技術(shù)的發(fā)展起著十分重要的作用。

感謝關(guān)注“雷尼紹中國”